自90年代以來，全球電子行業(yè)蓬勃發(fā)展，引起了世界各國政府的高度重視。中國的電子工業(yè)歷經(jīng)多年的改革開放，逐漸成為“世界電子產(chǎn)品制造業(yè)的加工廠”。目前大力發(fā)展晶圓廠，在晶棒、晶圓的制造過程中，切割、研磨、劃片、減薄、化學(xué)研磨平坦化(CMP)等工藝后的清洗過程中，均會產(chǎn)生研磨廢水。研磨廢水中含有少量的研磨膏、被研磨下來的微小顆粒以及清洗劑，但其中的水質(zhì)比較好，電導(dǎo)率和TOC(Total Organic Carbon，總有機(jī)碳)含量都比較低，具有回收利用的價(jià)值。

研磨廢水回收的難點(diǎn)在于廢水中的顆粒物非常微小，采用傳統(tǒng)的介質(zhì)過濾沒有辦法去除。現(xiàn)有技術(shù)中一般采用混凝沉淀進(jìn)行預(yù)處理，再運(yùn)用高分子有機(jī)物制成的超濾技術(shù)，利用有機(jī)超濾膜的孔徑小的特點(diǎn)，對研磨廢水中的微小顆粒進(jìn)行截留，合格的產(chǎn)水進(jìn)行回收。但是，由于研磨廢水中的顆粒物比較鋒利，且有機(jī)超濾存在機(jī)械強(qiáng)度不足，容易斷絲且過濾效果較差的情況。另外，有機(jī)超濾對進(jìn)水中SS(Suspended Solids，懸浮物)和TOC的容忍度有限，對預(yù)處理的要求嚴(yán)格，化學(xué)穩(wěn)定性有限，運(yùn)行故障后，膜的性能恢復(fù)性不理想等缺陷，因此有機(jī)超濾運(yùn)用起來故障率高，更換頻繁。

在半導(dǎo)體、微電子和太陽能電池/電池板的工業(yè)生產(chǎn)過程中，會使用大量的工藝水或超純水進(jìn)行沖洗。這些制程中消耗了昂貴的水資源，并且其廢水中的污染物很難通過傳統(tǒng)工藝除去。這些污染物有切割劃片切割劃片和l背面研磨產(chǎn)生的微粒、溶解態(tài)金屬、氟離子和其他殘余物。

納米平面膜過濾系統(tǒng)與化學(xué)沉淀反應(yīng)相結(jié)合，是一種針對此類廢水處理的極為高效的解決方案。納米平面膜組件使用壽命長、化學(xué)耐受性和耐摩擦性能都，是一種理想的用于晶圓研磨廢水過濾的膜產(chǎn)品。經(jīng)由采用了安高所設(shè)計(jì)制造的系統(tǒng)處理之后的出水可以循環(huán)并重新利用。在某些情況下，那些被過濾截留的固體成分也可以重新再利用。